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Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)是我們優(yōu)化的入門級沉積系統(tǒng)。我們的腔室設計特別適合手套箱集成。NANO 36 具有更高的功能和更小的占地面積，提供了實惠的價格點，同時保持了您期望從 KJLC 獲得的質(zhì)量。

電子束蒸發(fā)鍍膜設備CMS系列極其強大的優(yōu)良研究工具 設計用于適應特定的薄膜應用，如 GMR、CMS、半導體、納米級器件、光子學和光伏 系統(tǒng)設計可以配置為真正的超高真空性能 經(jīng)過現(xiàn)場測試和驗證的設計

Kurt J. Lesker Company LAB Line UHV 磁控濺射鍍膜設備專為磁控濺射沉積應用而設計。為滿足 UHV 濺射工藝需求而定制的腔室設計、具有高級編程、負載鎖定功能的行業(yè)*軟件控制系統(tǒng)以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能是這種創(chuàng)新設計提供的一些優(yōu)勢。®

Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 200 多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺是一種模塊化、功能齊全的薄膜沉積系統(tǒng)，可實現(xiàn) 8 英寸晶圓轉移、多達 8 個濺射陰極和 eKLipse 高級控制軟件。

Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 75 是基于主力 PVD 75多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。PVD 75 在全球擁有 400 多臺設備，是一款久經(jīng)考驗、堅固耐用且用途廣泛的設計。PRO Line PVD 75 建立在原始設計的成功基礎上，改進了系統(tǒng)基礎壓力和抽空時間。技術的腔室設計、具有高級編程功能的行業(yè)最佳軟件控制系統(tǒng)、自動

Veeco 的單靶點 NEXUS PVDi 物理氣相沉積系統(tǒng)為各種薄膜沉積應用提供了最大的靈活性。NEXUS PVD 的加工精度為 200 毫米，具有先進的工藝能力、均勻性和多種沉積模式